芬兰KxS Technologies半导体晶圆化学监测仪
赫尔纳供应芬兰KxS Technologies半导体晶圆化学监测仪，德国总部直接采购，近30年进口工业品经验,原装产品,支持选型，为您提供一对一的解决方案：货期稳定，报价，价格优，在中国设有8大办事处提供相关售后服务。
芬兰KxS Technologies是一家专注于工业过程测量技术研发和生产的企业。该公司提供的半导体晶圆制造用化学监测仪，主要用于半导体制造过程中各类化学药液浓度的在线分析与控制。
一、产品类型
该品牌主要产品类型包括：
在线化学浓度监测仪
化学液混合配比控制系统
蚀刻工艺终点检测系统
CMP slurry密度监测仪
高纯化学品输送监测系统
湿法工艺槽液浓度控制设备
二、主要型号
目前该品牌主要型号有：
DCM-10
RIM-S200
CCM-3000
SDS-500
EMM-400
SCM-200
WCM-1000
三、产品介绍
以DCM-10型号为例，该设备为在线式折射率监测仪，采用原位测量原理。通过测量液体的折射率变化来推算化学浓度，适用于多种半导体工艺药液的实时监测。
主要技术参数：
测量范围：1.3200-1.5300 RIU
测量精度：±0.0001 RIU
温度补偿范围：0-100℃
过程连接：1/4" FNPT
接液材质：PTFE/哈氏合金
输出信号：4-20mA/Modbus TCP
四、优势特点
多化学品适应性：可测量HF、H2O2、NH4OH等多种半导体常用化学品
实时在线测量：直接安装于工艺管道或槽体，实现不间断监测
耐腐蚀设计：采用氟材料密封和耐腐蚀合金接液部件
温度自动补偿：内置温度传感器，自动校正温度变化影响
数据通讯功能：支持标准工业通讯协议，便于系统集成
五、主要应用
CMP工艺中slurry浓度的在线监测与控制
湿法刻蚀工艺中蚀刻液浓度的实时监测
晶圆清洗过程中SC-1、SC-2等清洗液的浓度配比验证
光刻胶去除工艺中化学药液的活性维持
化学品配送系统的浓度校验与质量控制
该类设备为半导体制造过程中的化学液浓度控制提供了测量手段，有助于保持工艺稳定性和产品良率。
赫尔友道，融中纳德-----我们无假货，我们价格实惠，我们品质！
仪器仪表
模拟盒
首 页 